透射電鏡是一種高分辨率、高放大倍數的顯微鏡，是材料科學研究的重要手段，能提供極微細材料的組織結構、晶體結構和化學成分等方面的信息。透射電鏡的分辨率為0.1～0.2nm，放大倍數為幾萬～幾十萬倍。

　　透射電鏡樣品制備要求

　　透射電鏡制樣原則：

　　①簡單。

　　②不破壞樣品表面，如：避免磨樣過程中產生的位錯及離子減薄過程中產生的非晶現象等。

　　③盡可能獲得大的薄區。

　　透射電鏡樣品要求：

　　①對電子束透明(電子束穿透固體樣品的厚度主要取決于：加速電壓和樣品原子序數)。

　　②固體、干燥、無油、無磁性。

　　透射電鏡塊體樣品的制備方法：

　　1、離子減薄

　　特點：不受材料電性能的影響，即不管材料是否導電，金屬或非金屬或者二者混合物，不管材料結構多復雜均可用此方法制備薄膜。

　　①樣品裁剪：將透射電鏡樣品沖壓成直徑3mm的圓片。

　　②研磨拋光：將透射電鏡樣品圓片用手動研磨盤手動研磨至厚度低于80微米的圓片。

　　③凹坑：凹坑儀單面凹坑至圓片ZX厚度為10-30微米。

　　④離子減薄：設置好離子槍角度、減薄時間、加速電壓將樣品減薄至出現足夠薄區。

　　2、電解雙噴

　　特點：受材料電性能的影響，只能用于金屬樣品，并且耗時短成本低。

　　①樣品裁剪：將透射電鏡樣品沖壓成直徑3mm的圓片。

　　②研磨拋光：將透射電鏡樣品圓片用手動研磨盤手動研磨至厚度低于100微米的圓片。

　　③凹坑：凹坑儀單面凹坑至圓片ZX厚度為10-30微米。

　　④電解雙噴：設置好電解液、電壓、溫度將樣品減薄至出現足夠薄區。